材料
应用
常见问题
铜钨靶
高纯金属靶材 | 头部/杆部复合定制 | 高致密
| [商标]:HOSOCP® | |
| [材质]:铜镶钨 | |
| [尺寸规格]:按图加工 | |
| [生产工艺]:真空熔渗法 | |
| [公差] :0~+0.02 | |
| [表面状态]:铣光 或者 磨光 | |
| [加工工艺]:独有的HOSOCP®CBT技术 | |
| [应用范围]:医学影像诊断、工业无损检测、X射线设备等 | |
深圳市和铄金属有限公司生产钨,钼及其合金材料,铜合金材料,以及精密电极等产品,可根据客户图纸进行异形件加工,广泛应用于电阻焊电极、电火花电极、电子封装片以及电力电气触头等工业领域。
[产品特点]
模块化定制:头部(功能端)与杆部(散热/连接端)可独立选材,实现性能与成本的精准平衡。
高纯高致密:严格控制杂质含量,致密度高,溅射速率均匀,减少对真空系统的污染。
结构强度高:复合界面结合牢固,在大功率溅射或高负荷产热场景下不易脱落或断裂。
[适用场景] 半导体芯片制造中的金属互连溅射靶材;高功率太阳能电池薄膜沉积;平面显示面板(FPD)制造。
[选型建议] 针对不同的溅射功率和冷却条件,技术顾问可为您推荐最佳的头部与杆部材质组合;对于高功率应用,建议杆部选用纯铜或高铜含量合金以增强整体散热。
[对应国际牌号] T700,T725,T750,T800。
[询盘时请提供] 材料含量、尺寸和公差、数量、应用工况。
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